हाइड्रोक्लोरिक एसिड (HCl) संरचना, गुण, जोखिम और उपयोग

हाइड्रोक्लोरिक एसिड (HCl) एक अकार्बनिक यौगिक है जो हाइड्रोजन क्लोराइड के पानी में विघटन से बनता है, जिससे हाइड्रोन आयन (H) की उत्पत्ति होती है₃हे⁺) और क्लोराइड आयन (सीएल)^-)। अधिक विशेष रूप से, यह हाइड्रोजन के साथ हैलोजन क्लोरीन का हाइड्रेजाइड है.

एचसीएल एक मजबूत एसिड है जो पानी में पूरी तरह से आयनित होता है और इसके आयनीकरण उत्पाद स्थिर होते हैं। एचसीएल का पूर्ण आयनीकरण इस तथ्य से पुष्टि करता है कि 0.1 एम एचसीएल समाधान का पीएच 1 है.

एचसीएल के औद्योगिक उत्पादन के लिए मुख्य विधि कार्बनिक यौगिकों का क्लोरीनीकरण है, उदाहरण के लिए, डाइक्लोरोमेथेन, ट्राइक्लोरोइथिलीन, पर्क्लोरेथिलीन या विनाइल क्लोराइड। एचसीएल क्लोरीनीकरण प्रतिक्रिया का एक उपोत्पाद है.

इसका उपयोग बेस यौगिकों में कई रासायनिक प्रतिक्रियाओं में, कार्बनिक यौगिकों के रासायनिक पाचन में किया जाता है, आदि।.

हाइड्रोक्लोरिक एसिड (हाइड्रोजन क्लोराइड) के वाष्प आंखों में गंभीर चोट पहुंचा सकते हैं। इसके अलावा, वे श्वसन पथ में जलन और गंभीर समस्याएं पैदा कर सकते हैं.

गैस्ट्रिक प्रकाश में एचसीएल की उच्च एकाग्रता के साथ एक एसिड पीएच (1-3) है। एसिड की उपस्थिति गैस्ट्रिक सामग्री की नसबंदी का पक्षधर है, भोजन में मौजूद कई बैक्टीरिया को निष्क्रिय करता है। यह गैस्ट्रोएंटेराइटिस की व्याख्या करेगा जो एक्लोरहाइड्रिया की स्थिति से जुड़ा है.

इसके अलावा, एचसीएल एंजाइम प्रोटियोलिटिक पेप्सिन को सक्रिय करके प्रोटीन के पाचन की सुविधा प्रदान करता है.

इसका उपयोग पूल की सफाई में किया जाता है, आमतौर पर एक आम डिटर्जेंट पर्याप्त होता है, लेकिन ऐसे स्पॉट होते हैं जो टाइलों के बीच चिपक जाते हैं, इन मामलों में हाइड्रोक्लोरिक एसिड के उपयोग की आवश्यकता होती है.

इसका उपयोग दवा उत्पादों, भोजन और पीने के पानी में पीएच के नियंत्रण में किया जाता है। इसका उपयोग क्षारीय पदार्थ युक्त अपशिष्ट धाराओं के निष्कासन में भी किया जाता है.

हाइड्रोक्लोरिक एसिड का उपयोग आयन एक्सचेंज रेजिन के उत्थान में किया जाता है, जिसका उपयोग अनुसंधान प्रयोगशालाओं में और पीने के पानी के शुद्धिकरण में धातु आयनों या अन्य प्रकार के आयनों को उद्योग में करने के लिए किया जाता है।.

दूसरी ओर यह भी कहा जा सकता है कि हाइड्रोजन क्लोराइड, एक गैसीय यौगिक, एक डाय-परमाणु अणु है और परमाणु जो इसे बनाते हैं वह एक सहसंयोजक बंधन द्वारा जुड़ते हैं। इस बीच, हाइड्रोक्लोरिक एसिड एक आयनिक यौगिक है जो जलीय घोल H में अलग हो जाता है⁺ और सीएल^-. इन आयनों के बीच की बातचीत इलेक्ट्रोस्टैटिक प्रकार की है.

सूची

• 1 रासायनिक संरचना
• 2 प्रशिक्षण
• ३ कहाँ है??
  • 3.1 गैस्ट्रिन
  • ३.२ हिस्टामाइन
  • 3.3 एसिटाइलकोलाइन
  • 3.4 जैविक एचसीएल के अन्य स्रोत
• 4 भौतिक और रासायनिक गुण
  • 4.1 आणविक भार
  • 4.2 रंग
  • 4.3 गंध
  • 4.4 स्वाद
  • 4.5 क्वथनांक
  • 4.6 गलनांक
  • 4.7 पानी में घुलनशीलता
  • 4.8 मेथनॉल में घुलनशीलता
  • 4.9 इथेनॉल में घुलनशीलता
  • ईथर में 4.10 घुलनशीलता
  • 4.11 घनत्व
  • 4.12 गैस घनत्व
  • 4.13 वाष्प घनत्व
  • 4.14 भाप का दबाव
  • 4.15 स्थिरता
  • 4.16 स्वप्रयोजन
  • 4.17 अपघटन
  • 4.18 संक्षारण
  • 4.19 सतह तनाव
  • 4.20 पॉलिमराइजेशन
• 5 का उपयोग करता है
  • 5.1 औद्योगिक और घर-आधारित
  • 5.2 सिंथेसिस और रासायनिक प्रतिक्रियाएं
• 6 जोखिम और विषाक्तता
• 7 हाइड्रोक्लोरिक एसिड द्वारा क्षति की रोकथाम
• 8 संदर्भ

रासायनिक संरचना

HCl का प्रत्येक अणु हाइड्रोजन परमाणु और क्लोरीन परमाणु द्वारा बनता है। हालांकि कमरे के तापमान पर एचसीएल जहरीला और एक रंगहीन गैस है, अगर पानी में घुलने पर हाइड्रोक्लोरिक एसिड दिया जाता है.

ट्रेनिंग

-यह NaCl (सोडियम क्लोराइड) के इलेक्ट्रोलिसिस द्वारा उत्पादित किया जा सकता है जो एच उत्पन्न करता है₂ (छ), क्ल₂ (g), 2Na (ac) और OH^- (AQ)। तो:

एच₂ +  क्लोरीन₂ => 2 एचसीएल

यह एक एक्ज़ोथिर्मिक प्रतिक्रिया है.

-सल्फर एसिड के साथ सोडियम क्लोराइड प्रतिक्रिया करके HCl का निर्माण होता है। निम्नलिखित तरीके से योजना बनाई जा सकती है:

NaCl + एच₂दप₄  => NaHSO₄   +   एचसीएल

हाइड्रोजन क्लोराइड को तब एकत्रित किया जाता है और सोडियम क्लोराइड को निम्नलिखित प्रतिक्रिया के अनुसार सोडियम बाइसल्फाइट के साथ प्रतिक्रिया दी जाती है:

NaCl + NaHSO₄ => ना₂दप₄   +    एचसीएल

यह प्रतिक्रिया जोहान ग्लुबेर ने 17 वीं शताब्दी में हाइड्रोक्लोरिक एसिड का उत्पादन करने के लिए पेश की थी। वर्तमान में यह मुख्य रूप से प्रयोगशालाओं में उपयोग किया जाता है, क्योंकि इसके औद्योगिक उपयोग के महत्व में गिरावट आई है.

-हाइड्रोक्लोरिक एसिड को कार्बनिक यौगिकों के क्लोरीनीकरण के उपोत्पाद के रूप में उत्पादित किया जा सकता है, उदाहरण के लिए: डाइक्लोरोथेन के उत्पादन में.

सी₂एच₄   +   क्लोरीन₂  => सी₂एच₄क्लोरीन₂

सी₂एच₄क्लोरीन₂  => सी₂एच₃Cl + HCl

एचसीएल के उत्पादन की यह विधि औद्योगिक रूप से अधिक उपयोग की जाती है, यह गणना करते हुए कि संयुक्त राज्य अमेरिका में उत्पादित एचसीएल का 90% इस पद्धति द्वारा है.

-और अंत में, एचसीएल क्लोरीनयुक्त कार्बनिक कचरे के संचय में निर्मित होता है:

सी₄एच₆क्लोरीन₂      +       5 हे₂   => 4 सीओ₂    +     2 एच₂ओ + 2 एचसीएल

कहाँ है??

हाइड्रोक्लोरिक एसिड गैस्ट्रिक लुमेन में केंद्रित होता है जहां 1 का पीएच पहुंचता है। बाइकार्बोनेट से भरपूर एक बलगम अवरोधक का अस्तित्व, गैस्ट्रिक कोशिकाओं को कम गैस्ट्रिक पीएच के कारण नुकसान से बचाता है।.

एच के स्राव के लिए तीन मुख्य शारीरिक उत्तेजनाएं हैं⁺ गैस्ट्रिक शरीर के पार्श्विका कोशिकाओं द्वारा: गैस्ट्रिन, हिस्टामाइन और एसिटाइलकोलाइन.

गैस्ट्रीन

गैस्ट्रिन एक हार्मोन है जो गैस्ट्रिक एंट्रम क्षेत्र में स्रावित होता है जो सीए के इंट्रासेल्युलर एकाग्रता को बढ़ाने का काम करता है, एच के सक्रिय परिवहन के सक्रियण के मध्यवर्ती⁺ गैस्ट्रिक लुमेन की ओर.

सक्रिय परिवहन एक एटीपीज एंजाइम द्वारा किया जाता है जो एच को ले जाने के लिए एटीपी में निहित ऊर्जा का उपयोग करता है⁺ गैस्ट्रिक लुमेन की ओर और K दर्ज करें⁺.

हिस्टामिन

यह गैस्ट्रिक शरीर के तथाकथित एंटरोक्रोमफिन जैसी कोशिकाओं (एसईसी) द्वारा स्रावित होता है। इसकी क्रिया चक्रीय एएमपी की सांद्रता में वृद्धि और मध्यस्थता, गैस्ट्रिन की तरह, एच के सक्रिय परिवहन द्वारा की जाती है।⁺ गैस्ट्रिक प्रकाश की ओर एक पंप एच द्वारा मध्यस्थता⁺-कश्मीर⁺.

acetylcholine

यह योनि तंत्रिका टर्मिनलों द्वारा स्रावित होता है, जैसे गैस्ट्रिन इंट्रासेल्युलर सीए की वृद्धि से अपनी कार्रवाई को मध्यस्थ करता है, पंप एच की कार्रवाई को सक्रिय करता है।⁺-कश्मीर⁺.

द एच⁺ पार्श्विका कोशिकाओं की प्रतिक्रिया सीओ से होती है₂ एच के साथ₂या एच बनाने के लिए₂सीओ₃  (कार्बोनिक एसिड)। यह बाद में एच में विघटित हो जाता है⁺ और एचसीओ₃^-. द एच⁺ इसे गैस्ट्रिक एपिकल झिल्ली के माध्यम से गैस्ट्रिक लुमेन में सक्रिय रूप से ले जाया जाता है। इस बीच, HCO₃^- खून को क्ल्ट एंट्री के लिए ले जाया जाता है^-.

काउंटर-ट्रांसपोर्ट या एंटी-ट्रांसपोर्ट मैकेनिज्म Cl^-HCO₃^- पार्श्विका कोशिकाओं के बेसल झिल्ली में होता है जो इंट्रासेल्युलर सीएल संचय का उत्पादन करता है^-. इसके बाद, आयन एच के साथ गैस्ट्रिक लुमेन में गुजरता है⁺. यह अनुमान है कि एचसीएल के गैस्ट्रिक स्राव में 0.15 एम की एकाग्रता है.

जैविक एचसीएल के अन्य स्रोत

कैफीन और शराब जैसे पार्श्विका कोशिकाओं द्वारा एचसीएल के स्राव के लिए अन्य उत्तेजनाएं हैं.

गैस्ट्रिक और ग्रहणी संबंधी अल्सर तब होते हैं जब एचसीएल की हानिकारक कार्रवाई से गैस्ट्रिक कोशिकाओं की रक्षा करने वाली बाधा टूट जाती है.

जीवाणु हेलिकोबैक्टर पाइलोरी, एसिटाइलसैलिसिलिक एसिड और गैर-स्टेरायडल विरोधी भड़काऊ दवाओं (एनएसएआईडी) के उपरोक्त सुरक्षात्मक कार्रवाई को समाप्त करके अल्सर के उत्पादन में योगदान देता है.

एसिड स्राव भोजन में मौजूद रोगाणुओं को खत्म करने और पेप्सिन की क्रिया के माध्यम से प्रोटीन के पाचन को शुरू करने का कार्य करता है। गैस्ट्रिक शरीर की मुख्य कोशिकाएं पेप्सिनोजेन का स्राव करती हैं, एक प्रोनेजाइम जो गैस्ट्रिक लुमेन के कम पीएच द्वारा पेप्सीन में बदल जाता है।.

भौतिक और रासायनिक गुण

आणविक भार

36,458 ग्राम / मोल.

रंग

यह एक रंगहीन या थोड़ा पीला तरल है.

गंध

यह एक तीखी गंध है.

स्वाद

अपने चखने के लिए दहलीज शुद्ध पानी है 1.3 x 10 की एकाग्रता^-4 मोल्स / एल.

क्वथनांक

-121 F से 760 mmHg। -85.05 to C से 760 mmHg.

गलनांक

-१४ 17 एफ (-१३.ºº एफ) ३ w. /% डब्ल्यू / डब्ल्यू पानी में घोल के एचसीएल समाधान के लिए, -१३º -१२५ सेंटीग्रेड.

पानी में घुलनशीलता

एचसीएल समाधान में 86 ° F पर 67% w / w हो सकता है; 0 डिग्री सेल्सियस पर 82.3 ग्राम / 100 ग्राम पानी; 30 डिग्री सेल्सियस पर 67.3 ग्राम / 100 ग्राम और 40 डिग्री सेल्सियस पर 63.3 ग्राम / 100 ग्राम पानी.

मेथनॉल में घुलनशीलता

0ºC पर 51.3 ग्राम / 100 ग्राम और 20 .C पर 47 जी / 100 घोल

इथेनॉल में घुलनशीलता

20º C पर 41.0 / 100 ग्राम घोल

ईथर में घुलनशीलता

20º C पर 24.9 g / 100 घोल.

घनत्व

१०.१ w% समाधान w / w में ५ ९ 1,0 एफ पर 1,059 जी / एमएल.

गैस का घनत्व

1,00045 जी / एल

वाष्प का घनत्व

1,268 (1 के रूप में ली गई हवा के संबंध में)

भाप का दबाव

70 ° F पर 32,452 mmHg; -120.6। एफ पर 760 मिमीएचजी

स्थिरता

इसमें उच्च तापीय स्थिरता है.

autoignition

यह ज्वलनशील नहीं है.

सड़न

जहरीले क्लोरीन के धुएं को गर्म करके विघटित करता है.

चिपचिपापन: 0.405 cPoise (118.6, K पर तरल), 0.0131 c Poise (273.06 3 K पर वाष्प).

corrosivity

यह एल्यूमीनियम, तांबा और स्टेनलेस स्टील के लिए अत्यधिक संक्षारक है। सभी धातुओं (पारा, सोना, प्लेटिनम, चांदी, टैंटलम को छोड़कर कुछ धातुओं को छोड़कर).

सतह तनाव

118.6º K पर 23 एमएन / सेमी.

बहुलकीकरण

एल्डिहाइड और एपॉक्साइड हाइड्रोक्लोरिक एसिड की उपस्थिति में हिंसक बहुलकीकरण से गुजरते हैं.

भौतिक गुण, जैसे कि चिपचिपापन, वाष्प दबाव, क्वथनांक और गलनांक, HCl के प्रतिशत सांद्रता w / h से प्रभावित होते हैं।.

अनुप्रयोगों

हाइड्रोक्लोरिक एसिड का घर पर, विभिन्न उद्योगों में, शिक्षण और अनुसंधान प्रयोगशालाओं आदि में कई उपयोग हैं।.

औद्योगिक और घर

-हाइड्रोक्लोरिक प्रसंस्करण में हाइड्रोक्लोरिक एसिड का उपयोग किया जाता है, उदाहरण के लिए, एल्यूमिना और टाइटेनियम डाइऑक्साइड के उत्पादन में। इसका उपयोग तेल कुओं के उत्पादन सक्रियण में किया जाता है.

एसिड का इंजेक्शन तेल के चारों ओर छिद्र को बढ़ाता है, इस तरह से निष्कर्षण करता है.

-इसका उपयोग सीएसीओ जमा के उन्मूलन के लिए किया जाता है₃ (कैल्शियम कार्बोनेट) CaCl में इसके परिवर्तन द्वारा₂ (कैल्शियम क्लोराइड) जो अधिक घुलनशील और हटाने में आसान है। इसी तरह, यह औद्योगिक रूप से इस्पात के प्रसंस्करण में उपयोग किया जाता है, कई उपयोगों और अनुप्रयोगों के साथ सामग्री, दोनों उद्योगों में, इमारतों में और घर में.

-ईंटों की धुलाई और सफाई के लिए ब्रिकलेयर एचसीएल समाधानों का उपयोग करते हैं। इसका उपयोग घर में बाथरूम और उनके नालियों की सफाई और कीटाणुशोधन में किया जाता है। इसके अलावा, धातु की सफाई के संचालन सहित उत्कीर्णन में हाइड्रोक्लोरिक एसिड का उपयोग किया जाता है.

-हाइड्रोक्लोरिक एसिड में फफूंदी वाले लोहे के ऑक्साइड की परत को खत्म करने में आवेदन होता है, जो स्टील पर जमा होता है, जो पहले उसके बाद के प्रसंस्करण में बाहर निकालना, फाड़ना, गैल्वनीकरण, आदि में होता है।.

धर्म₂हे₃    +    Fe + 6 HCl => 3 FeCl₂     +      एच₂हे

-हालांकि अत्यधिक संक्षारक का उपयोग लोहे, तांबे और पीतल में मौजूद धातुओं के दाग को हटाने के लिए किया जाता है, पानी में 1:10 कमजोर पड़ने का उपयोग करके.

सिंथेस और रासायनिक प्रतिक्रियाएँ

-हाइड्रोक्लोरिक एसिड का उपयोग ठिकानों या क्षारों के अनुमापन प्रतिक्रियाओं में किया जाता है, साथ ही समाधानों के पीएच समायोजन में भी। इसके अलावा, इसका उपयोग कई रासायनिक प्रतिक्रियाओं में किया जाता है, उदाहरण के लिए प्रोटीन के पाचन में, अमीनो एसिड सामग्री के अध्ययन और इसकी पहचान से पहले।.

-हाइड्रोक्लोरिक एसिड का एक मुख्य उपयोग जैविक यौगिकों का उत्पादन है, जैसे कि विनाइल क्लोराइड और डाइक्लोरोमेथेन। पॉली कार्बोनेट, सक्रिय कार्बन और एस्कॉर्बिक एसिड के उत्पादन में एसिड एक मध्यवर्ती है.

-इसका उपयोग चिपकने के निर्माण में किया जाता है। जबकि कपड़ा उद्योग में इसका उपयोग कपड़ों के विरंजन में किया जाता है। इसका उपयोग चमड़े के कमाना उद्योग में किया जाता है जो इसके प्रसंस्करण में हस्तक्षेप करता है। यह उर्वरक के रूप में और क्लोराइड, रंजक आदि के उत्पादन में भी उपयोग होता है। इसका उपयोग इलेक्ट्रोप्लेटिंग, फोटोग्राफी में और रबर उद्योग में भी किया जाता है.

-इसका उपयोग कृत्रिम रेशम के उत्पादन में, तेल, वसा और साबुन के शोधन में किया जाता है। इसके अलावा, इसका उपयोग पोलीमराइज़ेशन, आइसोमेराइज़ेशन और अल्कलाइज़ेशन प्रतिक्रियाओं में किया जाता है.

जोखिम और विषाक्तता

यह त्वचा और जलने वाले श्लेष्म झिल्ली पर संक्षारक कार्रवाई करता है। ये, यदि गंभीर है, तो अल्सर और कैलोइड और वापस लेने योग्य निशान छोड़कर अल्सर का कारण बन सकता है। आंखों के संपर्क में कॉर्निया को नुकसान के कारण दृष्टि की कमी या कुल नुकसान हो सकता है.

जब एसिड चेहरे पर पहुंचता है तो गंभीर रूप से झांसे पैदा हो सकते हैं जो चेहरे को खराब करते हैं। एसिड के साथ लगातार संपर्क भी जिल्द की सूजन का कारण बन सकता है.

हाइड्रोक्लोरिक एसिड का अंतर्ग्रहण मुंह, गले, ग्रासनली और जठरांत्र संबंधी मार्ग की जलन का कारण बनता है, जिससे मतली, उल्टी और दस्त होते हैं। अत्यधिक मामलों में अन्नप्रणाली और आंत का छिद्र हृदय की गिरफ्तारी और मृत्यु के साथ हो सकता है.

दूसरी ओर, एसिड के वाष्प, उनकी एकाग्रता के आधार पर, श्वसन पथ की जलन पैदा कर सकता है, जिससे ग्रसनीशोथ, ग्लोटिस की एडिमा, ब्रोंकाइटिस के साथ ब्रांकाई का संकुचित होना, सियानोसिस और फुफ्फुसीय एडिमा (फेफड़ों में तरल पदार्थ का अत्यधिक संचय) होता है। और चरम मामलों में, मौत.

एसिड वाष्प के उच्च स्तर के संपर्क में परिणामी घुटन के साथ गले की सूजन और ऐंठन हो सकती है.

चमक के नुकसान के साथ दांतों में दिखाई देने वाले दंत परिगलन भी अक्सर होते हैं; वे पीले और नरम हो जाते हैं, और अंत में वे टूट जाते हैं.

हाइड्रोक्लोरिक एसिड द्वारा क्षति की रोकथाम

हाइड्रोक्लोरिक एसिड के साथ काम करने वाले लोगों की सुरक्षा के लिए नियमों का एक सेट है:

-श्वसन और पाचन रोगों के इतिहास वाले लोगों को एसिड की उपस्थिति के साथ वातावरण में काम नहीं करना चाहिए.

-श्रमिकों को एसिड-प्रतिरोधी कपड़े पहनना पड़ता है, यहां तक ​​कि हुड के साथ भी; आंखों की सुरक्षा के लेंस, आर्म प्रोटेक्टर, एसिड प्रतिरोधी दस्ताने और समान विशेषताओं वाले जूते। उन्हें गैस मास्क का भी उपयोग करना चाहिए और हाइड्रोक्लोरिक एसिड वाष्प के गंभीर जोखिम के मामलों में, स्व-निहित श्वास तंत्र के उपयोग की सिफारिश की जाती है।.

-काम के माहौल में आंखों की धुलाई के लिए आपातकालीन बौछारें और फव्वारे भी होने चाहिए.

-इसके अलावा, काम के वातावरण के लिए मानक हैं, जैसे कि फर्श के प्रकार, बंद सर्किट, विद्युत उपकरण की सुरक्षा, आदि।.

संदर्भ

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